En los equipos de manipulación de obleas, se utilizan guías lineales para posicionar y transferir con precisión las obleas semiconductoras a través de varias etapas del proceso de fabricación. La precisión requerida en este equipo es alta, con tolerancias que a menudo se encuentran en el rango submicrónico.
Los sistemas de inspección de obleas también utilizan guías lineales para proporcionar un movimiento preciso y suave de las herramientas de inspección, lo que permite mediciones de alta precisión y detección de defectos en la superficie de la oblea.
El equipo de fotolitografía, que se utiliza en el proceso de fabricación de semiconductores para modelar la superficie de las obleas, también requiere guías lineales de alta precisión para garantizar el posicionamiento preciso de la oblea y la exposición del patrón.
En la industria de los semiconductores, las guías lineales se utilizan por su excelente precisión, alta rigidez y baja fricción. Estas propiedades permiten que el equipo funcione con alta precisión y repetibilidad, lo que conduce a resultados de fabricación de alta calidad. Con la creciente demanda de miniaturización y alto rendimiento de los dispositivos electrónicos, se espera que la necesidad de guías lineales en la industria de los semiconductores siga creciendo.
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